Fab 공정의 한계 요즘 기사를 보면 파운드리 업체들의 Fab node 기술인 나노 경쟁이 치열하다. 최근 삼성전자가 세계 최초로 3 나노 공정 양산을 시작했다고 한다. 그러나 TSMC의 3 나노와 같은 성능이 아니며, 수율이 안 좋다는 얘기도 나오고 있다. 이 나노 앞의 숫자가 작을수록 회로 선폭이 좁아 더 미세하게 설계가 가능하고, 높은 성능을 낼 수 있음을 의미한다. 그런데 몇 가지 문제가 있다. 회로 선폭이 좁아지는 것은 좋은데, 이게 무한정 작아질 수 있을까? 그리고 공정이 미세화되면 수율 (Input 대비 Output의 양품 비율)이 그대로 유지될 수 있을까요? 고난도의 미세 공정으로 갈수록 수율이 낮아지고 있고, 기술 개발 속도가 느려지면서 비용이 상승한다. 또한 개발에 쏟아부은 시간과 비용..